光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶（包括紫外正、负性光刻胶）、深紫外光刻胶、X-射线胶、电子束胶、离子束胶等。
进口光刻胶需要注意的有：
1.进口海运光刻胶（整柜）到港前货主需要像海事局申报，不然会面临高额罚款
2.所有进口危险品需要做法检申报，接受检验检疫
3.所有光刻胶需要加贴中文危险品标签，建议有条件的情况下国外黏贴，不然查验的时候会面临整改产生额外费用
4.包装需要符合容纳危险品要求，包装上要有UN包装标记号
进口光刻胶清关单证一般需要：
1.提单
2.INVOICE
3.装箱单
4.企业符合性声明
5.是否添加稳定剂声明
7.中文危险品标签（中文GHS标签）
MSDS很重要，要准确，因为中文危险品标签也是按照中文MSDS上信息做的。
进口光刻胶清关申报流程：
到港前危险品海事局申报（整柜）——报关——缴税放行（海关查验放行）——检验检疫查验（查验包装，中文标签，核对资料等）——检验检疫整改（放行）——提货——商检调离查验（如有）
知识拓展：
综合保税区业务科普之研发、加工、制造、再制造
保税研发是综合保税区内具有研发设计能力的企业以有形料件、试剂、耗材以及样品等开展产品研发设计的经营活动。区内企业将优惠政策叠加，综合利用研发设备免税及物料保税等政策，降低整体研发成本，增强了科研竞争力。
综合保税区内生产企业可从事国外进口原材料保税加工后出口或销往国内，或从国内采购原材料入区退税后加工出口，或者同时将国内外原料加工后内销或出口。加工制造为利用国内外两种资源和产品，面向国际、国内两个市场的生产企业提供了发展空间，同保税物流、保税服务构成了综合保税区最基本的贸易形态。
再制造是指将主体部分不具备原设计性能但具备循环再生价值的入境料件完全拆解，经采用专门的工艺、技术对拆解的零部件进行修复、加工，产业化组装生产出再生成品，恢复或超过料件性能的生产活动。经过“再制造”的产品，可产生新的序列号及品牌。
